OmniFabric：直接在服装纸样 UV 上修复纹理

图 3 的粗纹理初始化与 UV 归一化分别解决什么问题？

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   先建立可缝合的纸样与服装几何

   ChatGarment 从参考图预测 GarmentCode 纸样，缝合并模拟为标准姿态网格。UV 沿纸样布片组织，因此纹理能回到生产编辑使用的二维面板；几何预测错误仍会传到后面，纹理模块不负责修好版型或拓扑。

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   生成四视图，投影为粗纹理

   使用 Nano Banana Pro 调整姿态，再由 Veo 3 生成旋转视图，选前后左右四帧。前后视图优先，侧视图填剩余未覆盖区；这提供完整但可能带阴影、褶皱和投影畸变的初始化，不是多视图真实测量。

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   把粗 UV、正面图和三维位置一起送入 DiT

   图右侧将粗纹理、正面渲染和 UV 对应三维位置作为条件，以共享位置编码帮助跨布片对应，正面图使用独立位置组织。1024 分辨率 LoRA 训练的 DiT 在 UV 域生成干净纹理，从而避免在每个视角单独修补造成不一致。

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   用合成退化教会归一化，再回到服装模拟

   数据管线约 3000 种款式、30000 组纹理，用 TPS 形变、Warp 褶皱与随机照明合成退化，对应干净纹理监督。输出贴回纸样再缝合模拟；粗糙度、金属度和法线在展示中来自 CLO Fabric Matte 等默认设置，模型没有反演完整 PBR。

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